IGBT技术现状及发展趋势
IGBT是新型电力电子器件的主流器件之一,国外IGBT已发展到第三代。 IGBT在设计上将MOS和双机型晶体管结合起来,在性能上兼有双极型器件压降小、电流密度大和MOS器件开关快、频率特性好的双重优点;在制造业上,在高电压、大电流的晶闸管制造技术基础上采用了集成电路微细加工技术。目前国外生产IGBT的公司有:日本的三菱、东芝、富士、日立;美国的IR、IXYS、SGS、THOMSONS、MOTOROLA;德国的西门子等。
产品主要分为四类:(A)单独的IGBT:电流15~400A,电压400~1200V;(B)半桥IGBT:电流15~75A,电压500~1000V;(C)全桥IGBT:电流18~32A,电压400~500V;(D) 三相IGBT:电流15~100A,电压400~1200V。IGBT产品已模块化,每个IGBT都并联续流二极管,然后以一单元、二单元、六单元形式封装在同一模块外壳内。低功率IGBT应用范围一般都在600V、1kA、1kHz以上区域,为满足家电行业的发展需求,摩托罗拉、ST半导体、三菱等公司推出低功率IGBT产品,适用于家电行业的微波炉、洗衣机、电磁灶、电子镇流器、照相机等产品的应用。
近几年来,我国开发出IGBT及其模块,填补了我国IGBT器件的空白。进入90年代,IGBT耐压水平、电流容量和性能迅速提高。IGBT的耐压水平正向4500V方向发展,电流容量向2000~2500A发展。由IGBT构成的功率集成电路发展很快,智能化模块(IPM)研究水平达到400A,1200V。
家电领域IGBT单管和模块的大规模集成式产业化技术主要参数指标如下:
UCES=1200V, IC=5A~50A;
UCES(SAT)<3.4V(IC=300A时);
TON<750ns;TR<250ns;TOFF<1μS;
耗散功率2kW (25℃以下)。
家电领域的加热电器主要技术指标:
电源:3相380V50Hz;
输出功率:1kW、2kW、3kW、5kW;
工作频率:5~10kHz、10~20kHz、25~50kHz;
启动成功率:100%;
输出功率稳定度:电源电压变动±10%时,输出变化不大于±1%;
效率:≥75%。
IGBT技术的研发趋势
1、加工工艺更精细
在开发IGBT的技术中,随着产品的更新换代,制造技术不断提高,精细加工也成为可能。现在,功率器件主要采用1μm以下的加工尺寸。
IGBT变迁与特性改进(标准特性)
从上表中可以看出每一代产品UCE(sat)及tf的标准特性。随着从第一代向第四代的进化,估计UCE(sat)可降低50%,tf可提高50~60%。
2、采用沟槽式栅极结构缩小芯片尺寸
从第三代向第四代发展过程中,通过从芯片表面向芯片内部沟槽式形成栅极,因为栅极的制作是从芯片表面向芯片内部挖一条沟,故将此结构称为沟槽结构。由于栅极沟槽化,使单胞单元尺寸缩小到原来的1/5。降低了MOSFET的沟道电阻,提高了单位芯片面积的电流密度。能制造同样额定电流而芯片尺寸最小的产品。
3、采用新材料改进产品特性
下一代IGBT的发展趋势之一是采用替代Si的新型材料改进产品特性。第二是通过寿命时间控制法,局部制作窗口,减少UCE(sat)的依赖特性,不提高UCE(sat)就能使开关特性达到高速化。第三是借助精细加工降低MOS部分的沟道电阻。利用这些方式,就能使开关特性与MOSFET相同,UCE(sat)与晶闸管相同的状况成为现实。
IGBT 研发新进展
IGBT(绝缘栅双极晶体管)作为新型电力半导体场控自关断器件,集功率MOSFET的高速性能与双极性器件的低电阻于一体,具有输入阻抗高,电压控制功耗代,控制电路简单,而高压,承受电流大等特性,在各种电力变换中获得极广泛的应用。各半导体生产厂商不断开发IGBT的高耐压、大电流、高速、低饱和压降、高可靠、低成本技术,主要采用1μm以下制作工艺,研制开发取得一些新进展。
U—IGBT。U(沟槽结构)—IGBT是在管芯上刻槽,芯片元胞内部形成沟槽式栅极。采用沟道结构后,可进一步缩小元胞尺寸,减少沟道电阻,提高电流密度,制造相同额定电流而芯片尺寸最小的产品。现有多家公司生产各种U—IGBT产品,适用低电压驱动、表面贴装的要求。
NPT—IGBT。NPT(非穿通型)—IGBT采用薄硅片技术,以离子注入发射区代替高复杂、高成本的厚层高阻外延,可降低生产成本25%左右,耐压越高成本差越大,在性能上更具特色,高速、低损耗、正温度系数,无锁定效应,在设计600~1200V的IGBT时,NPT—IGBT可靠性最高。西门子公司可提供600V、1200V、1700V系列产品和6500V高压IGBT,并推出低饱和压降DLC型NPT—IGBT,依克赛斯、哈里斯、英特西尔、东芝等公司也相继研制出NPT—IGBT及其模块系列,富士电机、摩托罗拉等在研制之中,NPTS型正成为IGBT发展方向。
SDB—IGBT。鉴于目前厂家对IBGT的开发非常重视,三星、快捷等公司采用SDB(硅片直接键合)技术,在IC生产线上制作第四代高速IGBT及模块系列产品,特点为高速,低饱和压降,低拖尾电流,正温度系数易于并联,在600V和1200V电压范围性能优良,分为UF、RUF两大系统。
超快速IGBT。国际整流器IR公司的研发重点在于减少IGBT的拖尾效应,使其能快速关断,研制的超快速IGBT可最大限度地减少拖尾效应,关断时间不超过2000ns,采用特殊高能照射分层技术,关断时间可在100ns以下,拖尾更短,重点产品专为电机控制而设计,现在6种型号,另可用在大功率电源变换器中。
IGBT/FRD。IR公司在IGBT基础上推出两款结合FRD(快速恢复二极管)的新型器件,IGBT/FRD有效结合,将转换状态的损耗减少20%,采用TO-247外型封装,额定规格为1200V、25、50、75、100A,用于电机驱动和功率转换,以IGBT及FRD为基础的新技术便于器件并联,在多芯片模块中实现更平均的温度,提高整体可靠性。
IGBT功率模块。IGBT功率模块采用IC驱动,各种驱动保护电路,高性能IGBT芯片,新型封装技术,从复合功率模块PIM发展到智能功率模块IPM、电力电子积木PEBB、电力模块IPEM。PIM向高压大电流发展,其产品水平为1200~1800A/1800~3300V,IPM除用于变频调速外,600A/2000V的IPM已用于电力机车VVVF逆变器。平面低电感封装技术是大电流IGBT多芯片并联的关键工艺,美国海军开发出以IGBT模块为有源器件的PEBB,用于舰艇上的导弹发射装置。IPEM采用共烧瓷片多芯片模块技术组装PEBB,大大降低电路接线电感,提高系统效率,现已开发成功第二代IPEM,其中所有的无源元件均以理层方式掩埋在衬底中,智能化、模块化正成为IGBT发展热点。 (责编 连小卫)
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